半导体

DBR 结构是VCSEL最重要的一道制程,DBR的设计、制作好坏,深深地影响VCSEL的表现。Enli Tech u-PLM-EX 采用非破坏的光学检测方式来精准的检测、分析DBR磊晶结构,相关的分析功能完整,协助用户快速掌握VCSEL的开发关键。

半导体应用

u-PLM-EX_检测VCSEL的DBR光学特性之核心关键 DBR 结构是VCSEL最重要的一道制程,DBR的设计、制作好坏,深深地影响VCSEL的表现。Enli Tech u-PLM-EX 采用非破坏的光学检测方式来精准的检测、分析DBR磊晶结构,相关的分析功能完整,协助用户快速掌握VCSEL的开发关键。 VCSEL垂直共振腔面射雷射 垂直共振腔面射雷射(Vertical-cavity surface-emitting lasers, VCSELs),自1980年代后期发表以来,近期因为苹果iPhone X 使用3D立体影像感测技术作为人脸辨识,再度让VCSEL引起话题,成为产业趋势新焦点。 VCSEL属雷...